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磁控溅射仪
优异的薄膜均一性
出色的RF和DC溅射靶枪系统
磁控溅射仪
衬底尺寸：4'为主，6'兼容。
溅射金属膜厚均匀性要求：≤±5%。
靶位：4个。
极限压力：<6.6×10-6e Pa。
靶材尺寸：3英寸。
可溅射磁性材料。
靶与样品距离可调，且可以在30度角度内摆头。
配置load-lock，可放置5片6英寸样品，在高真空状态下，由电动马达分别传送每片样品，顺序溅射每片样品，逐一完成5片溅射镀膜。
样品台可加热至750度，可旋转。
全自动真空度控制模块。
气路：Ar、O2、N2。
射频电源：2个，每个600W。
直流电源：2个，每个1000W
联系人：张垚
手机：13916855175
电话：021-56035615
邮箱：info@crosstech.com.cn
地址： 上海市杨浦区松花江路251弄白玉兰环保广场3号902室
